GdF3(フッ化ガドリニウム)の特性
赤外域のうち、特に長波長側や反対の紫外域で特徴的な光学特性を示すフッ化物です。可視光域ではあまり検討されることはありません。硬度にやや難があります。
屈折率 | 1.59(550nm) ※3 |
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使用波長域 | 0.28μ- ※3 |
蒸発方法 | - |
蒸発源材料 | - |
蒸発タイプ | - |
膜質 | - |
応力 | 初期引っ張り、堆積すると圧縮(膜厚によって変化) |
主な用途 | 短波長域用の光学部品 |
理論密度 | |
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融点 | 1231℃ |
沸点 | 2277℃ ※1 |
性質 | 不溶(水)※1 |
結晶構造 | 斜方 YF3型 高温でLaF3型に転移 ※2 |
抵抗率ρ/10^-8Ωm | - |
誘電率、比誘電率εγ | - |
熱膨張係数 | - |
熱伝導率(cal/cm/sec/℃) | - |
比熱(cal/℃/mole) | - |
外観 | 白色、半透明 |
CAS-NO | |
輸送情報 | 輸出貿易管理令(リスト規制非該当) |
参照文献
- ※1:[日本化学会編,“化学便覧 基礎編 改訂5版”,丸善(2005),p.T-223]
- ※2:[日本化学会編,“化学便覧 基礎編 改訂5版”,丸善(2005),p.U-836]
- ※3:光学薄膜と成膜技術 李正中 署 株式会社アルバック訳 アグネ技術センター2005年8月30日初版第三刷
専門誌等で発表されているGdF3の薄膜に関する研究論文
掲載誌 | APPLIED OPTICS Vol.45, No.7 / 1 March 2006 |
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タイトル | "Microstructure-related properties at 193nm of MgF2 and GdF3 films deposited by a resistive-heating boat" |
著者 | Ming-Chung Liu, Cheng-Chung Lee, Masaaki Kaneko, Kazuhide Nakahira, and Yuuichi Takano |
概要 | 異なる基板温度下で、抵抗加熱法により蒸着されたMgF2とGdF3の単層膜について、条件と光学特性(透過率、屈折率、消衰係数、光学的損失)と微細構造(表面形態と結晶構造)の関連性を調査した研究論文 |
掲載誌 | APPLIED OPTICS Vol. 46, No. 16 / 1 June 2007 |
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タイトル | "Nanoporous structure of a GdF3 thin film evaluated by variable angle spectroscopic ellipsometry" |
著者 | Jue Wang, Robert Maier, Paul G. Dewa, Horst Schreiber, Robert A. Bellman, and David Dawson Elli |
概要 | CaF2基板上に成膜した200nm以下での高屈折率材料の候補であるGdF3について、光学特性、膜密度、表面粗さ等について考察した |
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