受託成膜、サービス｜企業の一覧
成膜には、PVD（物理的気相法）に分類される蒸着、スパッタリングやCVD（化学的気相法）、スピンコートなど多彩な装置・手法があります。単に「蒸着」だけでもイオンアシスト蒸着、イオンプレーティング蒸着、電子ビームを用いたもの、抵抗加熱式のもの等いくつか手法が分かれています。依頼される場合、成膜手法の違いが膜質や特性にどのような影響を及ぼすのかある程度知っておく必要があります。同じ物質を薄膜にするのでも、成膜の手法によって物性や特性が変わる場合もあります。
受託成膜を行っている企業は、装置メーカーであったり、成膜専業のメーカー、材料メーカーなどいずれも高度なコア技術を持っているところが多く、それぞれが特長あるサービスを行っています。専門分野が分かれていることもあり、光学膜に強いのか、工具コーティングなどの耐摩耗性の膜に強いのか、半導体やウエハへの成膜が得意か、有機膜なのか等各社のサイトでは得意分野は実績などから類推することも出来ます。
通常はバッチあたりいくらといった計算方法を取っている企業が多く、成膜を依頼する際にはどういった薄膜をどの範囲で成膜するのか合意の上、依頼することになります。不明な点は図面や書面をメール交換してやり取りしたり、打ち合わせできたりするほうがよいでしょう。
納期は数日という企業もありますが、数週間程度かかる場合もありますが、受託成膜そのものは多くが「試作」のため、開発者、研究者、技術者の要望については熟知している企業が多いといえます。頻繁に薄膜の試作が必要になる場合、相性のよい企業を見つけて継続的にやり取りしていくのがよいかもしれません。その場で薄膜の評価が必要な場合、こうした薄膜の分析装置を持っているところがよいでしょう。薄膜の分析だけを専業で行う企業もあります。
また薄膜をつけたいがどのような成膜手法が適しているのがよくわからないという場合は、複数の成膜手法を持つ企業に相談してみるのも一つの方法です。ただ、薄膜を形成する技術は様々な分野にまたがっているため、現実にはすべての膜を横断的に扱う、という企業はありませんので、全く異分野の技術を試してみたいという場合は、複数社とやり取りしていくことになります。なお、PVDやCVDに分類される薄膜というのは、一般に数nmから数十ミクロン程度の膜厚を持つものです。「めっき」や「溶射」などの数ミクロンから数百ミクロン、あるいはミリ単位になるようなものの場合は、このPVDやCVDなどの真空を利用した成膜は向きません。
| 液相成膜法（ウェット） | めっき | |
|---|---|---|
| 塗布 | ||
| ゾルゲル | ||
| スピンコート | ||
| 気相成膜法（ドライ） | PVD（物理的気相法） | 蒸着 |
| スパッタ | ||
| CVD（化学的気相法） | 熱CVD | |
| MOCVD | ||
| プラズマ | ||
- 東邦化研
- イオンプレーティング(PVD)や真空蒸着による成膜を手がける。膜厚はナノメートル単位から10ミクロンを超える厚膜のコーティングが可能。同社では特に豊富な膜の種類の経験があり、単金属の他、酸化・窒化・合金やこれらの多層膜(積層膜)、その他多くの膜種を扱っている。少数単位から大量生産に至るまで対応。膜の強度や成分分析などコーティングされた膜の検査・分析業務も行う。またマスクの設計製作も含むパターン成膜や、樹脂フィルムへの成膜、立体物などの複雑な形状への膜付け、大面積のコーティングが出来る点も特徴。
- フルヤ金属
- 多彩なスパッタ技術（コスパッタ、リアクティブ、高温埋め込み、多層、高真空etc）による受託成膜。小さな基板1枚から量産まで、幅広く成膜対応。クラス1000（一部100）対応のクリーンルームで、徹底した品質管理。パターニング加工や薄膜分析も手がける。保有しているスパッタリング装置には、RFプラズマ支援スパッタ装置、LTS3元スパッタ装置、高真空8インチスパッタ装置、インターパックスパッタ装置がある。
- エス・エフ・シー（ＳＦＣ）
- イオンビームアシスト蒸着による受託成膜を手がける。イオンアシストにより、密着性の高い成膜が可能。基材は金属に限らず、ゴム・樹脂・布・ガラス・プラスチック・セラミックスなど、様々な種類の材料に対応。剥がれやすい基材への成膜を得意とする。
- 協同インターナショナル
- 受託成膜サービス、フォトリソ及びエッチング加工を手がける。成膜、パターニング、フォトリソ、エッチング、CMPなどのウェハ加工の受託加工・代行。成膜手法としては、スパッタリング、蒸着、CVDが可能。少量試作から量産まで、豊富なノウハウと充実したサービス体制。分野としては、半導体、FPD(フラットパネルディスプレイ)、金型の離型膜、医療器具のチタンコーティング、MEMS、センサ、太陽電池、電極、絶縁膜、パワーデバイス用裏面電極成膜など多岐にわたる。
- マテリアルデザインファクトリー
- 有機Cat-CVD、有機プラズマCVDなどにより、各種有機・無機ハイブリッド系、機能性材料の成膜を行う。特に、各種ポリマーフィルム、ガラス基板などへの低温成膜を得意とする。薄膜の種類としては、カーボン系薄膜、DLC(ダイヤモンドに近い薄膜からグラファイトに近い薄膜まで）、SiCx、CNx、Si系酸化物薄膜（150℃前後の低温成膜可能）、SiOx、SiOC、窒化物薄膜（150℃前後の低温成膜可能）、SiCN、酸窒化薄膜（150℃前後の低温成膜可能）、SiOCN、フロロカーボン膜（リモートRFプラズマCVD）、CFx（テフロン同等品）、プラズマ重合膜（リモートRFプラズマCVD）、無機元素ドープポリエチレンなど。
- セイワオプティカル
- 真空蒸着、イオンプレーティング蒸着による受託成膜を手掛ける。主として、光学用途の薄膜、例えば反射防止膜、反射膜、金属膜、ビームスプリッター、コールドミラー、コールドフィルター、色分解フィルター等に対応。パイプの外周のコーティングなど特殊な形状の基材も可能。誘電体コーティングとしては、SiO2、TiO2、HfO2、Ta2O5、Al2O3、Cr2O3、MgF2、MgO、ZrO2などを行う。ITOの透明導電膜も成膜可能。
- タイゴールド
- スパッタリングによる光学多層膜、PVDプロセスによる耐磨耗、耐食性の高い複合皮膜の形成を行う。耐磨耗性の高い、窒化チタン（TIGOLD）、窒化クロム（CROMIT）等の複合皮膜の成膜及びこれに関する材料及び技術の開発販売。 光学膜としては、反射防止膜、導電膜、光学フィルター膜、ハーフミラー膜、コールドミラーの成膜などを手がける。
- 豊島製作所マテリアルズシステム事業部
- スパッタリングターゲット・MOCVD材料・スピンコート材料といった薄膜の材料を製造するメーカーだが、受託成膜も手がけている。スパッタによる成膜、スピンコートによる成膜、MOCVDによる成膜にも対応。XRD装置による結晶分析、分光光度計による分光分析など、薄膜評価ツールも豊富。
- ビースパッタ
- スパッタリング法による受託成膜加工、スパッタリング装置の開発を手がけるメーカー。薄膜受託、成膜代行。スパッタリング装置は４台保有。成膜の実績例として、Au・Pd・Ag・Cu・Cr・Al・Ta・Ni-Cr・TiN・TiC・ITO・SiO2・Al・Cr・ITO・SiO2・TiO2・TiN・TiC・Cr・TiN・TiC・Al・ Cr・TiO2・SUS・Ni-Crが紹介されている。分野としては、電子部品用の絶縁膜や抵抗体・誘電体、タッチパネルから、光学用のレンズや工具の表面硬度や耐摩耗性を向上させるコーティング、装飾用途など幅広い成膜を手がけている。
- ワコム研究所
- 自社内に設置した次世代FeRAM用MOCVD装置、高品質メタル薄膜用MOCVD装置の開発設備を使用して、受託成膜加工を行っている。従来の塩素系・フッ素系ガスを使用した高温および危険なプロセスを採用せず、低温で安全、高品質な金属酸化膜、金属膜を成膜することが可能。
- 日本MEMS
- ウエハ受託加工サービス。成膜だけでなく、露光、エッチング受託加工にも１枚から対応。PZT成膜サービスも行っており、スパッタ法で４，５，６インチに対応。電子ビームによる蒸着では、Cr、Au、Pt等、PECVD、APCVDによる成膜ではSiC、SiN、SiO2、BPSG、スパッタリングではAl, Ta, TaN, Ta2O5, Ti, TiN, Cu, TaAl, AlCuSi, AlCuが紹介されている。
- アステラテック
- 通常納期１週間程度で、スパッタリングによる成膜を行う。基板材料としては、ガラス、金属、セラミックス、Siウエハ、各種プラスチック材料が可能。成膜できる材料としては、Pt、Ti、Al、Cu、Ni、Sn、C、Si、ITO、TiO2、SiO2、Al2O3など。場合によっては材料の持ち込みも可能。最大の成膜エリアは400mmφか315mm角。パターン成膜も可能。
- ティー・オール
- スパッタリング装置、真空蒸着装置、イオンプレーティング装置、CVD装置（DLC用）を利用した受託成膜を手がける。最大成膜寸法は1000mm角。蒸着、スパッター膜、イオンプレーティング膜、DLC膜、熱分解メッキ膜（Au、Ag、Pt、Ir、Ru、Ta 等）が可能。
- 東製
- DLCの成膜装置を製造するメーカー。受託成膜として、ＤＬＣ（ダイヤモンド状炭素）膜コーティングも手がける。特殊イオン窒化とイオンプレーティング（TiN、TiCN、TiC、CrN）を連続して行うことにより、高耐圧・高耐磨耗処理を実現したMX-IP成膜装置も開発しており、こちらについても小ロット・中ロットでの受託成膜に対応。
- 株式会社Harmonic Uni-Brain
- 蒸着重合法による高分子ポリマー（ポリイミド、ポリ尿素）の受託成膜を行う会社。無機系の薄膜を行う会社は多いが、同社では有機薄膜を扱う。有機溶剤を一切使用しないで高分子ポリマーが成膜可能。高分子ポリマーの主な用途としては、ポリイミドは断熱・絶縁膜など、ポリ尿素は防食膜など。
- 株式会社MPS
- 成膜サービスとしては、熱フィラメントCVDによるダイヤモンド膜の受託加工、ダイヤモンド膜、ボロンドープダイヤモンド膜を手がけている。プラズマCVD法によりDLCの受託成膜も試作１点から対応。
- フルウチ化学
- スパッタリングターゲット、半導体材料、単結晶の製造販売を行うメーカーだが、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングによる成膜加工も手がける。各種機器分析装置による定性・定量・結晶解析・不純物分析を受託分析も可能。
- ケイ・エム技研
- スパッタリングによる受託成膜を手がけるメーカー。 埼玉県越谷市にある。研究開発用に適した多機能マシンを保有。高価なターゲットを少量しか使用しない場合や材料組成比の選択をしたい場合等にも対応。
- アルバック成膜
- スパッタリングや熱CVDによる成膜受託を行う。前者は低欠陥、応力コントロールが可能で、材料としては、Au、Pt、Cr、W、Ti、Ni、Al、Al-Si、Si、SiO2、MoSi、ITO等が可能。後者の熱CVDはGNF（Graphite Nano Fiber）に対応。
- 若狭電機産業株式会社
- 電鋳、スパッタリング、マスタ製作受託サービスを手がけるメーカー。樹脂フィルム、樹脂シートスパッタリング事例やロール品へのスパッタリング事例が紹介されている。スパッタリングは蒸着では難しい均一性が高く緻密な膜を成膜することが可能。パイプや管などのロール形状品、筒形状品、棒形状品の外周部へのスパッタリング、Ti-Alなどの特注ターゲットによる合金成膜、ITOフィルム（透明導電膜）やCu合金膜など電磁波シールド、EMC対策などでも利用される膜にも対応。
- ナノテック株式会社
- DLCコーティング DLC薄膜装置 薄膜評価試験機 表面分析の表面処理を手がけるメーカー。受託成膜としては、DLC （ダイヤモンドライクカーボン）コーティング、ICF（真性カーボン膜）コーティング、PVD（物理蒸着）コーティング、PECVD コーティングに対応。
- 浜松ナノテクノロジー株式会社
- ナノ粒子を噴霧して薄膜や観察用試料を作る微粒子成膜技術を持つメーカー。
- 第三化成株式会社
- 絶縁・防水・防湿・防錆製のdiXコーティングを手がけている。diXコーティングは化学蒸着法（ＣＶＤ）による透明で、人体に安全で、信頼性の高いパラキシリレン樹脂の絶縁・防湿・耐薬品コーティング。電気絶縁/防湿/防錆/耐水/ガスバリア/耐薬品/耐熱/摺動/耐候性に優れたコンフォーマルコーティング材。
- 倉元製作所
- FPD用基板への成膜加工など特にガラス基板への低抵抗ITO膜で定評のあるメーカー。有機EL用平滑ITO膜、ＣＦ・ＢＭ用超低反射メタル膜、銀合金系高反射メタル膜等の技術も持つ。
- ジオマテック
- 低抵抗、高透明度のITO膜の成膜を行う。静電容量式タッチパネル用 ITO膜のほか、光学機能膜や金属膜などの量産の成膜を行う。ITO膜付きガラスなどの小ロット販売も行っている。
薄膜の特性【参考】
主として光学膜や機能膜として用いられる薄膜材料のバルクでの代表的な特性、物性について紹介します。
酸化物の薄膜
- Al2O3（酸化アルミニウム、アルミナ）
- CeO2（酸化セリウム）
- Cr2O3（酸化クロム）
- Ga2O3（酸化ガリウム）
- HfO2（酸化ハフニウム、ハフニア）
- NiO（酸化ニッケル）
- MgO（酸化マグネシウム、マグネシア）
- I.T.O（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２）酸化インジウムスズ
- Nb2O5（五酸化ニオブ）
- Ta2O5（五酸化タンタル）
- Y2O3（酸化イットリウム、イットリア）
- WO3（酸化タングステン）
- TiO（一酸化チタン）
- Ti3O5（五酸化チタン）
- TiO2（二酸化チタン、チタニア）
- ZnO（酸化亜鉛）
- ZrO2+TiO2（複合酸化物）
- ZrO2（酸化ジルコニウム、ジルコニア）
フッ化物の薄膜
- AlF3（フッ化アルミニウム）
- CaF2（フッ化カルシウム）
- CeF3（フッ化セリウム）
- LaF3（フッ化ランタン）
- LiF（フッ化リチウム）
- NaF（フッ化ナトリウム）
- MgF2（フッ化マグネシウム）
- NdF3（フッ化ネオジウム）
- SmF3（フッ化サマリウム）
- YbF3（フッ化イッテルビウム）
- YF3（フッ化イットリウム）
- GdF3（フッ化ガドリニウム）
窒化膜
炭化膜
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