YF3（フッ化イットリウム）の特性
YF3 （フッ化イットリウム）は、約200nmから14μm程度を透過波長域とする低屈折率材料の一つです。赤外領域での良好な透過率を持つことから、赤外域用の光学部品にも使われます。耐湿性、機械的強度の向上などには成膜技術上の課題が残ります。特定の水吸収帯域を持つことが知られています。
| 屈折率 | 1.5(550nm近辺) ※３ |
|---|---|
| 使用波長域 | 0.2-14μm ※３ |
| 蒸発方法 | EB（電子ビーム）、抵抗加熱 |
| 蒸発源材料 | モリブデン |
| 蒸発タイプ | - |
| 膜質 | - |
| 応力 | 引っ張り |
| 主な用途 | IR膜 |
| 理論密度 | 5.07g/cm3 |
|---|---|
| 融点 | 1152℃ |
| 沸点 | 2230℃ |
| 性質 | 不溶（水）、分解（濃酸） ※１ |
| 結晶構造 | 斜方 YF3型 高温で六方晶に転移 ※２ |
| 抵抗率ρ/10^-8Ωm | - |
| 誘電率、比誘電率εγ | - |
| 熱膨張係数 | - |
| 熱伝導率（cal/cm/sec/℃） | - |
| 比熱(cal/℃/mole) | - |
| 外観 | 白色 |
| CAS-NO | |
| 輸送情報 | 輸出貿易管理令（リスト規制非該当） |
参照文献
- ※１：［日本化学会編，“化学便覧 基礎編 改訂5版”，丸善（2005），p.Ⅰ-358］
- ※２：［日本化学会編，“化学便覧 基礎編 改訂5版”，丸善（2005），p.Ⅱ-836］
- ※３：光学薄膜と成膜技術 李正中 署 株式会社アルバック訳 アグネ技術センター２００５年８月３０日初版第三刷
専門誌等で発表されているYF3の薄膜に関する研究論文
| 掲載誌 | Journal of Materials Science Letters Volume 11, Number 2, Jan 1992 page94-9 |
|---|---|
| タイトル | "Laser-Induced damage study on vacuum evaporated YF3 thin films" |
| 著者 | - |
| 概要 | - |
| 掲載誌 | Proc. SPIE 2253, 195-203(1994) |
|---|---|
| タイトル | "Optical and structural properties of YF3 thin films prepared by ion assisted deposition or ion beam sputtering techniques" |
| 著者 | J.Y.Robic, V.Muffato, P.Chaton, M.Ida and M.Berger |
| 概要 | - |
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